晶盛机电取得发明专利授权：“抛光液供应体系及晶圆抛光机”

  证券之星音讯，依据企查查多个方面数据显现晶盛机电（300316）新取得一项发明专利授权，专利名为“抛光液供应体系及晶圆抛光机”，专利申请号为CN0.4，授权日为2024年1月9日。

  专利摘要：本发明触及一种抛光液供应体系及晶圆抛光机，该抛光液供应体系应用于晶圆抛光机，该抛光液供应体系包含：中心轴，开设有进液流道；及第一滚动件，滚动衔接于中心轴，开设有出液流道，出液流道用于连通供液通道；进液流道连通出液流道。由于进液流道、出液流道均坐落抛光液供应体系内，所以抛光液在活动进程中一直不会露出于外界。因而，外界的杂质无法经过抛光液进入晶圆抛光机流入上盘，这可避开外界的杂质对晶圆的抛光进程构成负面影响而导致晶圆的抛光质量下降。并且，由于抛光液没有露出于外界，所以抛光液不容易蒸发，晶圆抛光机上由蒸发的抛光液构成的结晶便会明显削减，这可以减轻晶圆抛光机的清洁担负。

  今年以来晶盛机电新取得专利授权7个，较去年同期削减了12.5%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研制方面投入了6亿元，同比增118.68%。

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