晶圆制作的必需环节CMP职业已敞开国产化加快键工业链全收拾

  前语：前面发布的《CMP系列一》中我首要介绍了CMP的设备和资料这两大细分赛道，本篇再来从工业链和职业远景等视点弥补介绍一下这个职业。

  重申下，一切的内容来自于揭露的途径（不是一切的揭露途径我们都能接触到），如果有触及商业利益的，请联络自己调整。

  CMP 抛光资料上游为原资料供货商，首要为研磨剂企业，其他非必须企业有化工企业、包装资料企业和滤芯企业。半导体工业制作流程杂乱，特别是集成电路范畴对运用的 CMP 抛光资料要求高，首要原资料研磨剂的制作技能掌握在世界企业手中，如日本富士、美国嘉柏等。

  中游环节为 CMP 抛光资料制作商，最重要的包含 CMP抛光液企业和 CMP 抛光垫企业。

  下流的运用范畴为半导体工业，分为集成电路、分立器材、光电子器材、传感器范畴，其间集成电路为首要范畴，占半导体工业商场规模的 80%以上。

  在CMP商场构成的前期，商场敏捷的构成了高度集中化的竞赛格式。根据Gartner数据，2017年全球CMP设备商场规模17.5亿美元，其间运用资料12.4亿美元，日本荏原4.7亿美元，由此核算运用资料的比例为71.3%、日本荏原的比例为26.7%，两者算计占有全球CMP商场的90%以上商场比例。

  CMP设备是运用耗材较多、中心部件有定时维保更新需求的制作设备之一。根据CMP工艺特色，CMP设备正常运转过程中，除了需求用抛光液、抛光垫等通用耗材外，设备本身的抛光头、坚持环、气膜、清洗刷、钻石碟等要害耗材也会快速损耗，一定要进行定时维保更新。

  别的，CMP设备是晶圆再生的中心工艺设备之一，别的设备销售与晶圆再生服务面向相同范畴客户，设备商向下流服务范畴延伸能够与原有事务构成较高协同。

  芯片出产采纳大批量制作形式，工艺杂乱、流程多，每一道工序运用资料的稳定性对终究晶圆良率有严重影响，下流客户对资料供货商的认证非常严厉。我国新进入企业只要在产品质量、价格、技能、服务等多方面优于原供货商，才有时机占有更多比例。

  国内CMP商场，现在在高端商场部分，绝大部分依然依赖于进口，在14nm以下最早进制程工艺的大出产线上所运用的CMP设备仅由美国运用资料和日本荏原两家世界巨子供给。运用资料与日本荏原别离已完结5nm制程和部分原料5nm制程的工艺运用；可是在老练制程范畴，以华海清科为代表的国内企业现已打破了国外企业占有大都商场的局势，而且现已在国内CMP商场占有了重要比例。

  完结CMP工艺除了CMP机台外，还需求抛光资料，最重要的包含抛光液和抛光垫，这两者占CMP资料的比例超越80%。根据华力微有关的资料，2018年1月，华海清科的Cu&SiCMP 设备进入上海华力，标志着国产首台12英寸铜制程工艺CMP设备慎重进入集成电路大产线。现在，由上海华力牵头，构成了华海清科的CMP机台+鼎汇微电子的研磨垫+安吉微电子的研磨液的国产CMP三合一形式，是全球初次12英寸先进出产线上全国产CMP配备的攻关探究。

  在需求方面，集成电路出产技能的进步使 CMP 抛光资料职业商场扩容，跟着集成电路技能的开展，芯片尺寸不断缩小、集成度继续进步，对晶圆外表平整度的要求更加严厉，抛光程序次数和需求抛光液的品种、用量随之添加；在供给方面，半导体 CMP 抛光资料是高价值、高耗费资料，本钱进入该范畴动力大，推进我国半导体 CMP 抛光资料供给公司数添加。

  获益全球半导体工业向我国搬运，我国半导体 CMP 抛光资料职业迎来开展良机。半导体工业的搬运对上游国产资料产生很多需求，促进 CMP 抛光资料等一系列配套资料本土化出产，完结大规模进口代替。2000 年后，我国开端承受全球半导体工业的第三次搬运并迎来晶圆厂建厂潮。2018 年我国共有 46 座晶圆制作厂，在 12 英寸和 8 英寸晶圆制作范畴均有触及，我国晶圆厂的很多投产，将带动上游国产 CMP 抛光资料职业的开展。

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